У китайской разработки литографического оборудования DUV появилось имя: «Шанхай Айшэнна»
У государственной компании, оказавшейся в центре нового технологического рывка Китая в сфере производства микросхем, наконец появилось название. Как сообщило во вторник агентство Reuters со ссылкой на осведомленный источник, пожелавший остаться анонимным из-за деликатности темы, малоизвестная государственная группа Shanghai Aishengna Electronic Technology Group («Шанхай Айшэнна») возглавляет работу по серийному производству отечественных иммерсионных литографических машин для глубокого ультрафиолетового излучения (DUV).
Сообщается, что компания сформировала свою программу за счет поглощения команд из нескольких ведущих китайских стартапов в области литографии.
Издание The Information первым сообщило в понедельник, что не названная официально шанхайская фирма при поддержке государства приступила к производству таких аппаратов, и одной этой новости хватило, чтобы в понедельник акции ASML в моменте рухнули более чем на 8%.
Reuters первым называет компанию по имени, и это имеет значение: во-первых, иммерсионная DUV-литография — это рыночная ниша, в которой ASML доминирует годами, а во-вторых, стремление Пекина наладить ее выпуск внутри страны является прямым ответом на экспортные ограничения, из-за которых лучшие инструменты нидерландской фирмы недоступны в Китае.
Сама компания Aishengna малоизвестна, а описание Reuters ее действий по сбору специалистов из уже существующих предприятий укладывается в привычную для китайской полупроводниковой отрасли схему, когда государство объединяет разрозненные усилия в единого национального чемпиона.
В более ранних сообщениях о достижениях Китая в области DUV-литографии упоминалась другая шанхайская фирма — Yuliangsheng, чей сканер SMIC, по имеющимся данным, тестировала в прошлом году, и она вполне может оказаться одной из команд, вошедших в новый проект.
Стоит внести ясность в то, для чего предназначена эта машина. Литография в глубоком ультрафиолете — это технология, которая переносит рисунки микросхем на кремний, а ее иммерсионная разновидность использует тонкую прослойку воды между линзой и кремниевой пластиной, что позволяет вытравливать более мелкие детали.
Эта технология отстает на одно поколение от экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии — гораздо более совершенного метода, который производит исключительно компания ASML и к покупке которого Китай официально заблокирован. DUV не может тягаться с EUV при производстве самых передовых чипов, однако в сочетании с методом многократного экспонирования (multi-patterning) она все же позволяет получать довольно продвинутые топологические нормы. Именно благодаря этому SMIC смогла выпускать 7-нанометровые процессоры вообще без использования EUV. Многократное экспонирование работает медленнее, стоит дороже и ведет к снижению процента выхода годной продукции, поэтому это скорее обходной путь, чем полноценная замена.
Предупреждения здесь весьма существенны, и источник Reuters особо подчеркнул их. Ожидается, что аппарат Aishengna потребует дополнительных испытаний и пока далек от того, чтобы составить конкуренцию моделям ASML, а потому не представляет никакой немедленной коммерческой угрозы для компании, которая по-прежнему снабжает бо́льшую часть мировой передовой литографии.
Данная информация основана на данных источников, а не на официальных заявлениях, и ни одна из вовлеченных компаний пока не подтвердила ее официально.
Если проект увенчается успехом, собственная производственная линия обеспечит Китаю надежную страховку. Отечественные DUV-установки предоставят местным производителям чипов альтернативный источник оборудования на случай, если западные правительства еще больше ужесточат правила — будь то за счет полного запрета на экспорт или прекращения технического обслуживания уже работающих зарубежных машин.
Издание The Information со ссылкой на два источника сообщает, что первые партии оборудования должны быть поставлены в текущем году ведущим китайским производителям, включая SMIC, Hua Hong Semiconductor и производителя чипов памяти ChangXin Memory Technologies.
Курс Китая на развитие собственной кремниевой промышленности уже изменил подход страны к проектированию ИИ-чипов, однако литография остается более сложным и стратегическим рубежом.
Для Пекина символизм этого шага крайне высок: технологическая независимость в сфере полупроводников входит в число высших приоритетов Си Цзиньпина, а литография оставалась самым зияющим пробелом в цепочке поставок страны.
Компания ASML, чьи акции к настоящему моменту стабилизировались, пока не ответила на запросы о комментариях; аналогичным образом поступили SMIC, Hua Hong и CXMT.



